Sul piano di produzione, il livello di uniformità termica è determinato in termini di gradi Celsius: semplice e chiaro. Una variazione di 0,5°C durante il processo di riscaldamento del fotorest, oppure una zona fredda sulla superficie del wafer durante la fase di essiccazione, possono causare problemi nelle dimensioni dei componenti prodotti, aumentare il numero di particelle indesiderate e trasformare componenti di qualità in rottami. Abbiamo progettato i nostri riscaldatori a base di nanotubi di carbonio proprio per eliminare questi problemi legati alle variazioni termiche.
Cosa è importante nel funzionamento del sistema
Abbiamo scelto elementi riscaldanti a base di nanotubi di carbonio perché rispondono rapidamente, mantengono un’emissività costante e permettono un controllo preciso della temperatura. In combinazione con le onde infrarosse a breve lunghezza d’onda, questi elementi consentono una distribuzione efficiente dell’energia. Il risultato è un livello di uniformità termica entro ±0,1°C nella zona attiva del wafer, con una ripetibilità del valore di riferimento di ±0,2°C. Il controllo della temperatura garantisce che il processo avvenga entro limiti precisi, senza superamenti dei valori consentiti. La stabilità termica permette inoltre di mantenere costanti le condizioni di riscaldamento anche durante periodi di tempo prolungati. Questo design elimina completamente la formazione di particelle indesiderate e permette l’utilizzo in ambienti puliti di classe 1–100. I sensori a circuito chiuso garantisco che il sistema funzioni correttamente shift dopo shift, senza interruzioni impreviste.
Perché questo è utile nella litografia e oltre
Nella litografia è necessario un riscaldamento uniforme per ottenere la giusta viscosità del fotorest e per eliminare i solventi presenti in esso. Nel caso del riscaldamento ad alta temperatura, è invece necessario un legame tra le molecole del fotorest in modo che il pattern rimanga intatto. I nostri riscaldatori garantiscono l’uniformità e la ripetibilità necessarie per mantenere sotto controllo le dimensioni dei componenti prodotti, riducendo così le variazioni ai bordi dei componenti stessi. Il wafer viene essiccato in modo più efficiente, con meno difetti superficiali e minore necessità di rifiniture.
La rapida risposta dei riscaldatori riduce i tempi di ciclo, mentre l’efficienza delle onde infrarosse riduce il consumo energetico per ogni lotto prodotto. Ciò permette di ampliare i limiti di operatività, di ridurre i rottami e di allungare gli intervalli di manutenzione.
Cosa bisogna considerare
I riscaldatori a base di nanotubi di carbonio richiedono un’interfaccia di alimentazione e controllo adeguata, in linea con le caratteristiche del proprio equipaggiamento e con i sistemi di sicurezza presenti. È necessario un breve periodo di collaudo per regolare i parametri di riscaldamento in base al tipo di fotorest e al substrato utilizzato. Il sistema è solido, ma è comunque necessario verificare il corretto collegamento termico con il chuck e la camera di lavorazione utilizzata. Una volta che tutto è configurato correttamente, il processo rimane stabile. Le sostituzioni avvengono solo quando lo si decide.