
Nella fase di produzione, proprio prima dell’imballaggio, il wafer esce dalla fase finale di pulizia; da quel momento inizia il conto alla rovescia. Qualsiasi traccia di umidità presente sulla superficie del wafer rappresenta un rischio: possono verificarsi difetti come vuoti, delaminazioni e perdite di qualità del prodotto finito. Anche una piccola variazione nella temperatura può compromettere l’integrità del fotorest e influire negativamente sulla ripetibilità dei risultati di produzione. È quindi necessario un processo di essiccazione estremamente preciso, simile a quello utilizzato nella litografia, ma che riesca comunque ad adattarsi ai tempi richiesti per l’imballaggio.
Cosa è importante?
Riusciamo a mantenere un livello di uniformità termica del wafer entro ±0,1°C su tutta la sua superficie; inoltre, la precisione con cui viene mantenuta la temperatura è compresa tra ±0,2°C. I riscaldatori utilizzano onde infrarosse a corta lunghezza d’onda, con finestre di vetro di quarzo per una trasmissione energetica rapida ed efficiente; inoltre, vengono utilizzati elementi rinforzati con fibra di carbonio per garantire stabilità meccanica. Nei laboratori di classe 1–100, il numero di particelle presenti nell’aria rimane inferiore a 0,1 particelle/cm² a 0,1 μm.
La performance del sistema rimane costante per oltre 5.000 ore, con una variazione di intensità inferiore al 5%. Il controllo avviene tramite SECS/GEM, mentre il ciclo di riscaldamento è progettato per funzionare 24/7 senza problemi.
Perché è adatto per la fase di pre-imballaggio?
Questo sistema è stato progettato apposta per l’essiccazione del wafer prima dell’imballaggio. Le variazioni di temperatura avvengono rapidamente, quindi il tempo di ciclo diminuisce senza che ci siano conseguenze negative sulle caratteristiche termiche del wafer. L’assenza totale di particelle mantiene pulita la superficie del wafer, mentre l’uniformità termica elevata protegge i profili del fotorest ottenuti durante le fasi di trattamento termico.
Si riduce inoltre il consumo energetico, poiché i riscaldatori raggiungono rapidamente la temperatura desiderata e la mantengono costante. I vantaggi sono: minori necessità di rimaneggiamenti, dimensioni critiche stabili e una capacità di produzione prevedibile.
Cosa è necessario per far funzionare il sistema?
È necessario disporre di una linea elettrica dedicata da 208–240 V, oltre ad aria pulita e secca a 4–6 bar. Il modulo è di dimensioni compatte, ma è necessario lasciare spazio intorno alla finestra di vetro di quarzo per permettere l’estrazione dell’aria e l’accesso al dispositivo. La connessione ai dispositivi di manipolazione esistenti è semplice; tuttavia, è consigliabile effettuare un test preliminare per regolare i parametri del sistema e verificare l’allineamento del wafer.
Si prevede un periodo di integrazione di due settimane, inclusa la configurazione dei parametri SECS/GEM.