Smettete di sprecare tempo asciugando i vostri wafer MEMS.
Se continuate ad utilizzare aria calda per asciugare i wafer dopo l’etching o la pulitura, in pratica state solo perdendo tempo senza motivo.
Lo vedo spesso in molti laboratori: l’aria calda sembra essere una soluzione semplice, ma in realtà è molto lenta. Prima bisogna riscaldare l’aria stessa, e poi l’aria deve riscaldare il wafer. È un processo lungo che rallenta notevolmente il ciclo di lavorazione.
Ecco cosa offre la tecnologia a raggi infrarossi: i termocircuiti a raggi infrarossi non hanno bisogno di utilizzare l’aria per riscaldare i wafer. Emettono radiazioni elettromagnetiche direttamente sulla superficie del wafer. Si arriva alla temperatura desiderata in pochi secondi, non in minuti.
Quando si tratta di processi di produzione di semiconduttori complessi, questi minuti risparmiati si sommano rapidamente. I wafer possono essere trattati più velocemente, e tutto procede in modo più fluido.
Tuttavia, non è così semplice come sostituire semplicemente una lampada. I termocircuiti a raggi infrarossi sono molto potenti; se i dispositivi di controllo non sono regolati correttamente, si può verificare uno squilibrio termico. Ciò potrebbe danneggiare le strutture MEMS o causare sovrariscaldamento dell’intero sistema. È necessario avere un sistema di feedback preciso, altrimenti si rischiano problemi.
L’aria calda, invece, è meno aggressiva. I termocircuiti a raggi infrarossi, invece, non perdono occasione di generare calore elevato. Se i dispositivi di controllo non sono regolati correttamente, si possono verificare problemi.
Tuttavia, se si vuole gestire una produzione su larga scala, i termocircuiti a raggi infrarossi rappresentano la soluzione migliore. Le stazioni di lavorazione sono più piccole rispetto ai forni tradizionali, quindi si può produrre di più senza occupare troppo spazio. Inoltre, la temperatura è uniforme su tutta la superficie del wafer. Non c’è più bisogno di preoccuparsi per macchie d’acqua o residui chimici causati dalle correnti d’aria.
Se si vuole aumentare la produzione, questa è sicuramente la soluzione migliore. Un consiglio: assicuratevi che il sistema di raffreddamento possa gestire il calore generato. Non vorrete certo che tutti gli altri strumenti vengano danneggiati mentre i wafer vengono asciugati.