Nelle linee di produzione, la variazione di temperatura durante la cottura del fotoresist o durante il riscaldamento dei wafer non rappresenta soltanto un ostacolo: influisce anche sulle dimensioni critiche dei componenti e riduce la qualità del prodotto finale. Abbiamo progettato la lampada TEL per mantenere costante la temperatura di lavorazione, ciclo dopo ciclo.
Ciò che è importante
La lampada utilizza un emittente a onde corte a base di halogeno, alloggiato all’interno di un involucro in quarzo ad alta purezza; inoltre, è dotata di una strategia di controllo a circuito chiuso. Questo sistema permette di mantenere l’uniformità della temperatura sui wafer entro i ±0,1°C. La risposta della lampada è rapida, quindi non si verificano variazioni di temperatura durante le fasi di cottura.
Nei laboratori puliti di classe 1–100, la riduzione della formazione di particelle è fondamentale. Questo design garantisce una bassa concentrazione di particelle, anche dopo migliaia di cicli termici. La ripetibilità delle prestazioni rimane elevata per oltre 5.000 ore, con una variazione di temperatura inferiore al 5%.
Perché è adatta al processo di litografia
La litografia richiede una precisione termica elevata. La lampada permette di ottenere profili di cottura precisi, il che aiuta a ridurre gli sprechi, migliorare il controllo delle dimensioni dei componenti e diminuire i rifiuti legati al processo. Per quanto riguarda la pulizia e il riscaldamento dei wafer, la lampada rimuove l’umidità dalla superficie senza causare stress termico; in questo modo è possibile accelerare i processi di lavorazione con minor uso di materiali. Nella fase di confezionamento, la lampada permette una polimerizzazione rapida ed uniforme degli elementi utilizzati per l’incapsulamento, riducendo così il tempo di cottura e i consumi energetici. I vantaggi sono: meno riparazioni, migliori risultati di qualità e programmi di produzione più prevedibili.
Dettagli pratici
La lampada può essere installata su piattaforme standard TEL, dotate di connettori e sistemi di fissaggio appropriati. Tuttavia, è necessario verificare con precisione la distanza tra la lampada e il wafer: deve essere inferiore a pochi millimetri. È consigliabile attendere un breve periodo di “riscaldamento” prima di iniziare il processo di produzione. Bisogna inoltre rispettare i parametri di alimentazione indicati per proteggere l’emittente e mantenere l’uniformità della temperatura entro i ±0,1°C.