Infrarotlampe für Reinraumbänke

Fri, 03 Jul 2026 03:33:50 +0800

Im Produktionsprozess verzeiht der Fotorezyst nicht kleine Abweichungen. Bei einer Temperaturerhöhung von 2°C entstehen Verformungen der Strukturen – das liegt an der Retention des Lösungsmittels nach der Belichtung. Bei einer hohen Temperatur am Rand der Wafer beginnt das Ätzenprofil zusammenzubrechen. Deshalb installieren wir in der Reinräumumgebung eine Infrarotlampe, um diese Abweichungen auszugleichen.

Was wirklich wichtig ist:
Die NIR-Lampe strahlt kurzwelliges Infrarot direkt auf die Fotorezystschicht ab – dadurch wird nur der Fotorezyst erhitzt, nicht der Trägermaterial. Auf der gesamten Oberfläche der Wafer bleibt die gewünschte Temperatur innerhalb von ±0,1°C konstant. Die Wiederholgenauigkeit beträgt ±0,05°C pro Prozesszyklus. Der Emitter besteht aus Quarz-Halogen und ist in einem für Reinräume der Klasse 1–100 geeigneten Gehäuse untergebracht – dadurch entstehen keine Partikel im laminaren Luftstrom. Die Leistungsintensität kann für Wafer mit einer Dicke von 150 mm bis 300 mm angepasst werden. Die Steuerung der Temperatur sorgt dafür, dass auch dünne Schichten bei beiden Arten der Erhitzung intakt bleiben. Das System arbeitet rund um die Uhr ohne Ausfälle – die Abweichungen liegen nach 5.000+ Stunden bei weniger als 5%.

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Infrarotlampe für Reinraumbänke