Heizgerät zur Charakterisierung von Halbleiterbauelementen

Wed, 01 Jul 2026 07:14:55 +0800

In der Fertigungshalle ist die Temperaturschwankung während der Charakterisierung der Wafer sowie beim Trocknen des Photoresists keine abstrakte Größe – sie zeigt sich in Form von Fehler im Linienbreitenwert, verbleibenden Schichten auf dem Wafer sowie einem Rückgang der Ausbeute. Wir haben unseren Heizer für die Charakterisierung von Halbleiterbauelementen so konzipiert, dass diese Schwankungen ausgeschlossen werden. Dadurch bleibt das thermische Budget innerhalb der vorgegebenen Grenzen – ohne dass man ständig versuchen muss, dieses Budget einzuhalten.

Was technisch wichtig ist: Unser Kurzwellen-Infrarot-Heizer ermöglicht eine schnelle, kontrollierte Erwärmung mit einer Genauigkeit von ±0,1°C. Die Reaktionszeit ist so kurz, dass die Temperatur innerhalb von Sekunden stabilisiert wird – dadurch verkürzt sich die Prozesszeit, ohne dass die Wiederholgenauigkeit beeinträchtigt wird. Der Heizer kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, ohne dass es zu Partikelentstehung kommt – dies wurde vor Ort überprüft. So erhalten Sie 24/7 Zuverlässigkeit ohne unplanmäßige Stillstände. Zudem wird durch die genaue Temperaturregulierung sichergestellt, dass sowohl das weiche als auch das harte Trocknungsverfahren innerhalb der vorgegebenen Spezifikationen stattfindet – Charge für Charge.

Characterization on Your Quartz Heater Source

Heizgerät zur Charakterisierung von Halbleiterbauelementen