Heizgerät für die Fertigungswerkstatt

Wed, 24 Jun 2026 01:14:21 +0800

In der Fertigungshalle sorgt diese Temperaturkurve für die Erwärmung der Wafer – doch sie bestimmt gleichzeitig auch den Rahmen des Prozesses. Schon ein paar Grad Unterschied während des Weichbrennvorgangs oder des Hartbrennvorgangs reichen aus, um kritische Abmessungen zu verändern, die Winkel der Seitenwände zu beeinflussen und somit die Qualität der Wafer zu beeinträchtigen. Unser Heizsystem wurde so konzipiert, dass eine gleichmäßige Temperatur auf der Oberfläche der Wafer erreicht wird – mit einer Abweichung von ±0,1°C. Dadurch bleibt das Profil des Photoresists während des Lithografie- und Ätzungsvorgangs stabil.

Montage on Your Quartz Heater Source

Heizgerät für die Fertigungswerkstatt