Heizgerät für industrielle Wafer Trocknungsanlagen

Sun, 21 Jun 2026 02:36:08 +0800

Im Produktionsbetrieb kann ein Partikel von unter 1 Nanometer Größe auf dem Trockenungstisch innerhalb von Sekunden dazu führen, dass eine 300-mm-Wafer zerstört wird. Die Heizgeräte der alten Generation sind instabil, und die thermische Unregelmäßigkeit zeigt sich als Variationen in der Linienbreite nach der Behandlung mit Fotolack. Es ist daher notwendig, eine Thermokontrolle zu verwenden, die mit dem Prozess Schritt hält – und nicht eine Kontrolle, die dem Prozess im Weg steht.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben das industrielle Wafer-Trocknungssystem so konzipiert, dass es den Anforderungen der Lithografie gerecht wird. Der Kern des Systems besteht aus einem Quarz-Halogen-Heizelement, das für eine schnelle und reproduzierbare Reaktion ausgelegt ist. Dadurch wird eine Temperaturuniformität von ±0,1°C über den gesamten Prozessverlauf gewährleistet. Die Temperaturgenauigkeit bleibt hoch, sodass die Parameter für die Trocknungstests konstant bleiben.

System on Your Quartz Heater Source

Heizgerät für industrielle Wafer Trocknungsanlagen