Lámpara de horneado suave para fotorresistencia

Sat, 20 Jun 2026 02:20:28 +0800

En el proceso de litografía, como es lógico, cualquier desviación, aunque sea de medio grado, puede hacer que la dimensión crítica del material químico utilizado se vea afectada. Si a esto se le añade la generación de partículas, entonces un lote que antes era perfecto puede convertirse en material inservible. Se necesita una fuente de calor que funcione como un verdadero parámetro de proceso, y no como otra variable más a tener en cuenta.

Lo que es importante desde el punto de vista técnico Utilizamos lámparas de infrarrojos de onda corta con emisores de cuarzo para el proceso de secado suave del fotoreactivos. El calor generado es rápido y dirigido, lo que permite lograr una uniformidad en toda la superficie de la oblea, con una variación de ±0.1°C. De este modo, el perfil térmico se mantiene constante de una vez a otra, evitando así que la exposición sea impredecible.

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Lámpara de horneado suave para fotorresistencia