औद्योगिक वेफर सूखने हेतु हीटर

Sun, 21 Jun 2026 02:36:10 +0800

फैब फ्लोर पर, सूखने वाले उपकरणों पर मौजूद 1 नैनोमीटर से भी छोटे कण, कुछ ही सेकंडों में 300 मिमी आकार के वेफरों को नष्ट कर सकते हैं। पुराने तरह के हीटरों में तापीय असमानताएँ होती हैं, जिसके कारण फोटोरेजिस्ट प्रक्रिया के बाद वेफरों की सतह पर असमानताएँ देखने को मिलती हैं। ऐसी स्थिति में ऐसा ताप नियंत्रण आवश्यक है जो प्रक्रिया के साथ तालमेल बनाए रखे, न कि उसके विरुद्ध काम करे।

क्या महत्वपूर्ण है?
हमने औद्योगिक वेफर सूखने वाले उपकरणों में लिथोग्राफी-ग्रेड के तापीय प्रदर्शन को ध्यान में रखकर हीटर डिज़ाइन किए हैं। इसका मुख्य घटक क्वार्ट्ज-हैलोजन आधारित है, जिससे त्वरित एवं नियमित प्रतिक्रिया प्राप्त होती है। यह प्रणाली प्रक्रिया के दौरान वेफरों की सतह पर ±0.1°C की सीमा में तापीय समानता बनाए रखती है। तापमान में नियमितता बनी रहती है, जिससे हर बार स्थिर परिणाम प्राप्त होते हैं।

प्रणाली on Your Quartz Heater Source

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