Forno on Your Quartz Heater Source

Elemento riscaldante del forno per essiccazione dei wafer

Sun, 05 Jul 2026 06:08:42 +0800

Introduzione
Diamo un’occhiata alla vera funzione di questi forni. Non ci accontentiamo di utilizzare semplicemente una lampada qualsiasi per riscaldare il contenuto del forno. Costruiamo l’elemento riscaldante partendo da zero, apposta per la essiccazione dei wafer: infatti, nel settore dei semiconduttori, è necessario che il calore sia costante, uniforme e prevedibile, ora dopo ora.
Si tratta di un emittente a onde corte infrarosse, progettato apposta per fornire un riscaldamento rapido e preciso in ambienti controllati. Poiché la linea di produzione non smette mai di funzionare, nemmeno l’elemento riscaldante può fermarsi. Deve mantenere una temperatura costante, come il battito cardiaco.

Forno per ambienti puliti _con riscaldamento a infrarossi

Tue, 30 Jun 2026 01:47:38 +0800

Nel reparto di litografia, si impara subito che anche un leggero cambiamento di temperatura, di soli mezzo grado, può influenzare il profilo del fotoresist. Inoltre, se la temperatura durante il processo di cottura è troppo elevata ai bordi del wafer, si potranno verificare problemi legati alla formazione di impurità sulla superficie del wafer stesso. In una sala pulita di classe 1–100, una singola particella proveniente dai termosifoni può rovinare l’intera produzione. Per questo motivo, abbiamo progettato i forni utilizzati in queste sale pulite con termosifoni a infrarossi, in modo che il calore venga disperso esclusivamente sul wafer, senza influenzare negativamente l’ambiente circostante.