Lampada a infrarossi per banco in camera pulita

Fri, 03 Jul 2026 03:33:50 +0800

Sulla linea di produzione, il fotoresistente non tollera piccole variazioni termiche. Anche una variazione di 2°C durante la fase di riscaldamento può causare problemi, poiché il solvente rimanente nell’ambiente può causare distorsioni nelle caratteristiche del prodotto ottenuto dopo l’esposizione. Il riscaldamento intensivo alle estremità del wafer può inoltre ledere il profilo di incisione dei materiali. Per eliminare queste variazioni, utilizziamo una lampada a infrarossi all’interno della sala pulita.

Cosa è importante in pratica
La lampada a infrarossi emette radiazioni a breve lunghezza d’onda che riscaldano direttamente il fotoresistente, senza influenzare il supporto su cui è applicato. In questo modo, la temperatura rimane costante entro ±0,1°C su tutto il wafer, con una ripetibilità di ±0,05°C tra un ciclo di riscaldamento e l’altro. Il emettitore è realizzato in quarzo-ioduro e viene montato all’interno di una struttura compatibile con ambienti di tipo Class 1–100, dove non vengono prodotte particelle durante il funzionamento. La densità di potenza può essere regolata per wafer di dimensioni comprese tra 150 mm e 300 mm; inoltre, i tempi di riscaldamento sono controllati in modo che anche i film sottili possano resistere sia al riscaldamento delicato che a quello intenso. Il sistema funziona 24 ore su 24 negli ambienti di produzione, senza interruzioni impreviste; inoltre, le variazioni di temperatura rimangono sotto il 5% dopo 5.000 ore di funzionamento.

Panchina on Your Quartz Heater Source

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