短絡を防ぐために：なぜすべてのランプをテストするのか 大量生産用の乾燥ラインでは、1つのランプが故障するだけでも大問題です。コントローラーが破壊されたり、電気系統全体がダメになったりする可能性もあります。そのため、私たちは単にランプを抜き取って検査するだけではありません。出荷前には、すべてのランプ...

MEMSウエハを乾燥させるのに時間を無駄にしないでください。 もし、エッチングや洗浄後に依然として強制送風式の熱風を使ってウエハを乾燥させているなら、それは単に無駄な時間の浪費に他なりません。 多くの工場でこのような状況が見られます。熱風は安全そうに思えますが、実際には遅いのです。まず空気を加熱し...

はじめに これらのオーブンが効果的に動作するための要素について、率直に話しましょう。単に普通のランプを使って済ませるわけではありません。ウェーハの乾燥のためには、加熱素子を一から設計しています。半導体製造においては、時間をかけても安定した、均一な熱が必要です。 これは短波赤外線放射体であり、制御さ...

パッケージング直前の工程では、ウェーハが最終的な洗浄工程を経て出てくると、時間のカウントダウンが始まります。表面に残った水分は大きな問題となり、空洞や層間剥離、歩留まりの低下を引き起こします。わずかな温度の変動であっても、フォトレジストの品質が損なわれ、再現性が失われてしまいます。したがって、リソ...

ファブの現場では、乾燥チャック上にある1ナノメートル未満の微粒子が、わずか数秒で300mmサイズのウェーハを破壊してしまうことがあります。旧式のヒーターでは温度が不安定になり、フォトレジスト処理後には線幅のばらつきが生じます。そのため、プロセスに合わせて温度をコントロールする必要があります。 重要...

ファブフロアでは、洗浄後や溶剤がフォトレジスト内に閉じ込められた後のウォーターマークは単なる局所的な欠陥ではありません。それらは連鎖的に拡大し、ライン幅の偏差、パーティクル数の増加、スクラップへと直結します。水分を除去しフィルムを安定化させる熱工程は単なる背景ノイズではなく、省略できない制御ポイン...