Bersih on Your Quartz Heater Source

Pemanas untuk bilik bersih semikonduktor

Sat, 25 Jul 2026 02:30:27 +0800

Menjaga suhu wafer agar tetap hangat: Mengapa kita beralih kepada penggunaan pemanas inframerah pada troli pemprosesan kita
Ketika memindahkan wafer antara pelbagai tahap pemprosesan, suhu merupakan faktor yang sangat penting. Untuk waktu yang lama, kaedah yang digunakan ialah menggunakan ketuhar konvektif. Namun, sebenarnya cara ini membuang-buang tenaga sahaja. Kita perlu memanaskan seluruh bilik hanya untuk menjaga wafer tersebut tetap hangat.

Itulah sebabnya kita mula menggunakan lampu inframerah pada troli pemprosesan di bilik bersih kami. Ini merupakan cara yang lebih efisien untuk mengendalikan proses pemprosesan tersebut.

Pemanas inframerah untuk bilik bersih

Sun, 19 Jul 2026 09:15:09 +0800

Hentikan usaha tekaan untuk mengawal suhu: Cara yang lebih baik untuk menguruskan sistem pemanasan di kilang pintar

Jika anda sedang membina kilang berbasis Industri 4.0 yang menggunakan teknologi digital, anda pasti sudah menyedari bahawa kaedah pemanasan konvensional yang digunakan sebelum ini sudah tidak lagi efektif. Kaedah ini terlalu lambat dan menyusahkan.

Itulah sebabnya kita menggunakan sistem pemanasan inframerah (IR). Kelebihan utama sistem ini ialah sumber haba tidak bergantung pada udara di sekelilingnya. Jika anda ingin mengawal kebersihan bilik khas tersebut, tetapi masih memerlukan suhu yang tinggi dengan cepat, inilah satu-satunya cara yang efektif.

Penggantian peralatan bilik bersih di kilang.

Fri, 10 Jul 2026 01:56:10 +0800

Hentikan pembaziran tenaga dalam fasiliti pengeluaran wafer anda

Jika anda sedang menaik taraf fasiliti pengeluaran wafer anda, anda pasti tahu bahawa pembaziran tenaga sebenarnya merupakan pembaziran wang. Apabila anda memanaskan wafer, anda bukan sahaja memerlukan “tenaga yang banyak”, tetapi juga tenaga yang dapat sampai ke permukaan wafer tersebut.

Masalahnya? Kebanyakan lampu kuarsa biasa tidak efisien. Ia memancarkan tenaga ke semua arah, jadi sebahagian besar tenaga yang mahal itu tidak sampai ke sasaran. Itulah sebabnya kami menggunakan reflektor yang dilapisi emas. Dengan cara ini, kita dapat mengurangkan pembaziran tenaga.

Lampu inframerah untuk meja di bilik bersih

Fri, 03 Jul 2026 03:33:50 +0800

Di kawasan pengeluaran, bahan photoresist tidak dapat bertoleransi terhadap sebarang perubahan kecil dalam suhu. Jika suhu semasa proses pembakaran berubah sebanyak 2°C, ia akan menyebabkan masalah pada hasil cetakan akibat pengekalan bahan pelarut yang digunakan. Proses pembakaran yang intensif pula akan menyebabkan bahagian tepi wafer menjadi panas, sehingga menjejaskan kualiti permukaan wafer tersebut. Kami menggunakan lampu inframerah di bilik bersih untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.

Apa yang penting dalam sistem ini
Lampu NIR memancarkan sinar inframerah berfrekuensi rendah secara langsung ke lapisan photoresist, lalu memanaskan lapisan tersebut tanpa mempengaruhi komponen lainnya. Suhu yang dihasilkan adalah seragam, iaitu dalam lingkungan ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pembakaran pula adalah ±0.05°C. Lampu ini diperbuat daripada kuarsa-halogen, dan dipasang dalam kotak khas yang sesuai dengan standard bilik bersih kelas 1–100, agar tidak ada zarah-zarah yang terlepas semasa proses pembakaran. Kekuatan tenaga yang digunakan boleh disesuaikan untuk wafer berukuran 150 mm hingga 300 mm. Sistem ini beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan variasi hasil cetakan tetap berada di bawah 5% setelah 5,000 jam operasi.

Pemanas inframerah untuk ketuhar di bilik bersih

Tue, 30 Jun 2026 01:47:38 +0800

Di bilik bersih kelas 1–100 ini, kita akan belajar dengan cepat bahawa perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk mengubah profil fotoresist. Jika pemanasan berlaku secara tidak sekata di bahagian tepi, ia akan menyebabkan ketidakseragaman pada permukaan wafer. Dalam bilik bersih seperti ini, satu zarah sahaja daripada pemanas boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Oleh itu, kami membina ketuhar di bilik bersih ini menggunakan pemanas inframerah yang memastikan suhu tetap stabil pada tahap yang sesuai – iaitu pada permukaan wafer, bukannya merebak ke seluruh bilik.