<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Perhimpunan on Your Quartz Heater Source</title>
		<link>http://quartz-heater-source.com/ms/tags/perhimpunan/</link>
		<description>Recent content in Perhimpunan on Your Quartz Heater Source</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 01:14:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-heater-source.com/ms/tags/perhimpunan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk bengkel pemasangan komponen Fab</title>
				<link>http://quartz-heater-source.com/ms/posts/fab-assembly-workshop-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:14:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-heater-source.com/ms/posts/fab-assembly-workshop-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-heater-source.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk bengkel pemasangan komponen Fab&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, lengkung suhu plat pemanas tersebut bukan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sahaja&lt;/a&gt; digunakan untuk memanaskan wafer, tetapi juga untuk menentukan parameter proses yang diperlukan. Perbezaan suhu sebanyak beberapa darjah &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;semasa&lt;/a&gt; proses pembakaran lembut atau keras sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal wafer, menyebabkan perubahan pada sudut sisi wafer, dan seterusnya merosakkan kualiti wafer tersebut. Pemanas yang digunakan di bengkel pengeluaran kami direka agar dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap wafer, iaitu antara ±0.1°C, supaya profil fotoresist kekal stabil sepanjang proses litografi dan etching.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
