Verwarmer voor karakterisering van halfgeleiderapparaten

Wed, 01 Jul 2026 07:14:57 +0800

Op de productielocatie is temperatuurvariatie tijdens de karakterisering van de wafers en het verhitten van de fotoresist geen abstract begrip. Het heeft tot gevolg dat er fouten in de dikte van de laagjes optreden, er restanten van de film overblijven en de opbrengst afneemt. We hebben onze verwarmingseenheid voor de karakterisering van halfgeleiderapparaten zo ontworpen dat deze variabiliteit wordt weggenomen. Hierdoor blijft de temperatuur binnen de gewenste grenzen, zodat er geen problemen ontstaan.

Wat technisch gezien belangrijk is: Onze korte-golfinfraroodverwarming zorgt voor een snelle en gecontroleerde verhitting, met een uniformiteit van ±0,1°C op het niveau van de wafers. De reactietijd is voldoende kort om de temperatuur binnen enkele seconden te stabiliseren. Hierdoor wordt de cyclusduur verkort, zonder dat de herhaalbaarheid wordt aangetast. De apparatuur kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100, zonder dat er particules worden gegenereerd. U hebt 24/7 betrouwbaarheid, zonder onverwachte stilstand. Bovendien wordt de temperatuur goed gereguleerd, zodat zowel het zachte als het harde verhittingsproces binnen de gewenste grenzen blijft.

Characterization on Your Quartz Heater Source

Verwarmer voor karakterisering van halfgeleiderapparaten