Trên sàn chế tạo, ngân sách nhiệt không phải là tùy chọn. Bạn sai một độ ở quá trình nướng mềm, và hồ quang quang học sẽ thay đổi. Nếu chạy nướng cứng quá nóng, độ trễ lớp sẽ xuất hiện nhanh chóng—các kích thước quan trọng sẽ trượt ra ngoài thông số trước khi bạn nhận ra. Đó là lý do tại sao chúng tôi chế tạo đèn hồng ngoại sóng ngắn (SWIR) cho IC dựa trên một thực tế: bạn cần nhiệt độ nhanh, được kiểm soát và lặp lại, chính xác nơi mà wafer, hồ quang quang học và chồng lithography cần nó.
Điều quan trọng, về mặt kỹ thuật, là cách năng lượng được phân bổ. SWIR thâm nhập vào các lớp mỏng với hiệu suất hấp thụ cao, làm nóng trực tiếp chồng hồ quang quang học và giữ cho sự vượt mức của nền tảng được kiểm soát. Hệ thống đạt được độ đồng nhất nhiệt ở cấp wafer là ±0.1°C, vì vậy các hồ quang nướng mềm và nướng cứng duy trì theo công thức—lần này qua lần khác.
Khả năng tương thích với phòng sạch được thiết kế vào, Class 1–100. Không phát sinh hạt tại bề mặt đèn, và mô-đun nhiệt kín giữ cho sự ô nhiễm bên ngoài. Độ tin cậy liên quan đến thời gian hoạt động: các đơn vị này chạy hơn 5,000 giờ với mức giảm công suất dưới 5%, giữ hoạt động 24/7 mà không dừng đột xuất.
Trong các tế bào lithography, đèn ổn định hồ quang nhiệt trên toàn bộ wafer, cắt giảm lớp bead và thắt chặt độ đồng nhất kích thước quan trọng sau quá trình etch. Tăng tốc nhanh rút ngắn các bước nướng mà không hy sinh tính toàn vẹn của hồ quang, do đó bạn có được nhiều sản lượng hơn và giảm tiêu thụ năng lượng. Độ chính xác tương tự được duy trì cho quá trình ổn định sau khi áp dụng, các bước xử lý nhiệt và điều kiện nhiệt liên quan đến đóng gói—lặp lại, lô này qua lô khác.
Dưới đây là những gì bạn cần làm đúng khi lắp đặt. Khớp chân đế đèn và giao diện với cổng nhiệt của công cụ. Hiệu chỉnh theo một pyrometer đã được chứng nhận để các điểm đặt khớp với nhiệt độ thực tế của wafer. Các nguồn SWIR cung cấp công suất đỉnh cao, vì vậy hãy xác nhận rằng bus điện của công cụ và quản lý nhiệt có thể xử lý tải tạm thời.
Lập kế hoạch cho việc kiểm tra và làm sạch cửa sổ định kỳ. Đó là điều giữ cho độ đồng nhất duy trì ổn định và ngăn ngừa độ liệng liều trên toàn bộ wafer.