Hệ thống sấy wafer công nghiệp – Bộ gia nhiệt

Sun, 21 Jun 2026 02:36:09 +0800

Trong quy trình sấy wafer, một hạt có kích thước dưới 1nm trên bộ phận sấy có thể phá hủy một tấm wafer 300mm chỉ trong vài giây. Các thiết bị sưởi cũ kỹ gây ra sự không đồng đều về nhiệt độ, dẫn đến sự thay đổi về chiều rộng của các đường trên bề mặt wafer sau khi xử lý bằng chất phủ quang học. Bạn cần hệ thống kiểm soát nhiệt độ có khả năng theo kịp tốc độ của quy trình sản xuất, chứ không phải hệ thống ngăn cản quy trình đó diễn ra.

Hệ Thống on Your Quartz Heater Source

Hệ thống sấy wafer công nghiệp – Bộ gia nhiệt