In der Fertigungshalle sorgt diese Temperaturkurve für die Erwärmung der Wafer – doch sie bestimmt gleichzeitig auch den Rahmen des Prozesses. Schon ein paar Grad Unterschied während des Weichbrennvorgangs oder des Hartbrennvorgangs reichen aus, um kritische Abmessungen zu verändern, die Winkel der Seitenwände zu beeinflussen und somit die Qualität der Wafer zu beeinträchtigen. Unser Heizsystem wurde so konzipiert, dass eine gleichmäßige Temperatur auf der Oberfläche der Wafer erreicht wird – mit einer Abweichung von ±0,1°C. Dadurch bleibt das Profil des Photoresists während des Lithografie- und Ätzungsvorgangs stabil.
Was wirklich wichtig ist
Wir kombinieren Quarz-Halogen-Kurzwellenemitter mit einem Heizblock mit geringer Wärmemasse. Dadurch sind die Temperaturanpassungen schnell und reproduzierbar. Der Regelkreis nutzt kalibrierte Sensoren, die auf der Oberfläche der Wafer angeordnet sind – nicht am Heizkörper selbst. So kann die gewünschte Temperatur genau kontrolliert werden. Das System entspricht den Anforderungen von Reinräumen der Klasse 1–100, erzeugt keine Partikel (was mittels In-Situ-Prüfungen bestätigt werden konnte) und arbeitet 24/7 ohne unplanmäßige Ausfälle. Die Reproduzierbarkeit liegt bei 0,2% über 5.000 Stunden hinweg – dadurch bleibt die Temperaturkonstanz von Charge zu Charge erhalten.
Warum das System in der Fertigung funktioniert
In den Brennvorrichtungen muss jedes Mal derselbe Temperaturverlauf erreicht werden: Ein Weichbrennvorgang dient dazu, Lösungsmittel zu entfernen, während ein Hartbrennvorgang dazu dient, die Schutzschicht zu härten. Zu hohe Temperaturen können zu Problemen führen, zu niedrige Temperaturen hingegen hinterlassen Rückstände. Unser Heizsystem hält den Temperaturverlauf im richtigen Bereich, reduziert den Ausschuss und verkürzt die Zykluszeiten. Der Stromverbrauch passt sich der thermischen Belastung an – dadurch können die Betriebskosten gesenkt werden, ohne dass die Geschwindigkeit des Prozesses beeinträchtigt wird.
Ein paar praktische Hinweise
Das Gerät benötigt eine separate, abgeschirmte Stromversorgung sowie eine saubere, trockene Leitungsanbindung – andernfalls kann es zu Unebenheiten in der Temperatur kommen. Der Austausch der Anschlüsse vor Ort kann dazu führen, dass die Kalibrierung um einige Zehntelgraden verschoben wird. Planen Sie die Installation entsprechend den Anforderungen der Maschine und überprüfen Sie vor dem Einsatz die Einstellungen. Wir liefern Kalibrierungsmaps sowie Vorlagen für die Weich- und Hartbrennvorgänge – doch die Integration hängt letztendlich davon ab, wie gut die Waferstapel und die Umgebung der Kammer miteinander abgestimmt sind.