در کارخانههای تولید، یک ذره به اندازه کمتر از ۱ نانومتر میتواند در عرض چند ثانیه، ویفر ۳۰۰ میلیمتری را از بین ببرد. هیترهای قدیمی دارای نوسانات حرارتی هستند؛ همچنین، عدم یکنواختی حرارتی باعث تغییرات در عرض خطوط روی سطح ویفر پس از فرآیند پردازش فوتورزیست میشود. لازم است کنترل حرارتی به گونهای باشد که با سرعت فرآیند همگام شود، نه اینکه مانع آن شود.
آنچه در پشت صحنه اهمیت دارد
ما سیستم گرمایشی مورد استفاده در خشک کردن ویفرها را بر اساس استانداردهای حرارتی مربوط به فرآیندهای لیتوگرافی طراحی کردهایم. هسته اصلی این سیستم، ساختاری از کوارتز و هالوژن است که برای پاسخسنجی سریع و قابل پیشبینی طراحی شده است. این سیستم، یکنواختی حرارتی در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد را در سراسر فرآیند تأمین میکند. قابلیت تکرارپذیری دما نیز بسیار خوب است؛ بنابراین، پروفیلهای گرمایشی مختلف نیز در هر بار اجرا یکسان باقی میمانند.
این سیستم در اتاقهای پاک با کلاس ۱ تا ۱۰۰ کار میکند؛ همچنین، مواد و ساختارهای مورد استفاده به گونهای انتخاب شدهاند که در طول فرآیند، تولید ذرات صفر باشد. این سیستم امکان کارکرد ۲۴/۷ را فراهم میکند و هیچ توقف غیرمنتظرهای ندارد؛ همچنین، عملکرد آن در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت نیز پایدار است.
چرا این روش در عمل مؤثر است
در فرآیندهای تمیزکردن و خشک کردن ویفرها، هیتر به تثبیت شرایط حرارتی کمک میکند. چرخههای خشک کردن باعث میشود سطح ویفر کاملاً تمیز و دارای انرژی سطحی قابل پیشبینی باشد. در فرآیند پردازش فوتورزیست، کنترل دقیق دما به حفظ ابعاد مهم ویفر کمک میکند و از بازکاری ناشی از مشکلات مختلف جلوگیری میکند. نتیجه این امر، بازدهی بالاتر، کاهش مقدار مواد باکیفیت پایین، و مصرف انرژی کمتر است.
چیزهایی که باید در نظر بگیرید
هیتر برای انواع خاصی از چاکها و الگوهای ولتاژی طراحی شده است؛ بنابراین، برای استفاده از آن، لازم است اندازهها و ویژگیهای الکتریکی آن دقیقاً مطابق با نیازها باشد. همچنین، باید زمان کافی برای تنظیم پارامترهای PID و توان حرارتی در نظر گرفته شود. عمر مفید این سیستم به پاکیزگی محیط و چرخههای روشن/خاموش بستگی دارد؛ بنابراین، باید از ورود ذرات به هوای ورودی جلوگیری شود و از چرخههای سریع روشن/خاموش نیز اجتناب شود تا سلامت لامپ و کوارتز حفظ شود.