Di lantai produksi, partikel berukuran kurang dari 1 nm yang ada pada alat pengering bisa merusak wafer berukuran 300 mm dalam hitungan detik. Pemanas model lama memiliki ketidakstabilan suhu, sehingga menyebabkan variasi lebar garis setelah proses pemrosesan photoresist. Diperlukan sistem kontrol suhu yang mampu mengikuti kecepatan proses tersebut, bukan sistem yang justru menghambatnya.
Apa yang penting dalam sistem ini?
Kami merancang sistem pemanas untuk pengeringan wafer dengan kinerja termal setara dengan standar litografi. Inti dari sistem ini adalah desain radiasi jenis kuarsa-halogen, yang dirancang untuk memberikan respons yang cepat dan konsisten. Sistem ini mampu menciptakan keseragaman suhu hingga ±0,1°C selama proses berlangsung. Tingkat repetibilitas suhu juga sangat tinggi, sehingga proses pengeringan tetap stabil dari satu batch ke batch lainnya.
Sistem ini beroperasi di ruang bersih kelas 1–100, dan bahan serta konstruksinya dipilih sedemikian rupa agar tidak terjadi pembentukan partikel selama proses berlangsung. Dengan demikian, sistem ini dapat beroperasi secara kontinu 24/7 tanpa adanya gangguan, dan menghasilkan output yang stabil selama lebih dari 5.000 jam.
Mengapa sistem ini efektif dalam praktiknya?
Dalam proses pembersihan dan pengeringan wafer, pemanas membantu menstabilkan suhu. Proses spin-dry menghasilkan permukaan wafer yang bebas dari sisa-sisa zat kimia, sehingga energi permukaannya pun dapat dikontrol dengan baik. Dalam proses pemrosesan photoresist, kontrol suhu yang tepat membantu menjaga dimensi wafer tetap akurat, sehingga mengurangi risiko kerusakan akibat proses pengeringan yang berlebihan. Hasilnya adalah tingginya tingkat produksi, lebih sedikit limbah, serta penggunaan energi yang lebih efisien berkat kontrol suhu yang baik.
Hal-hal yang perlu diperhatikan
Pemanas ini dirancang khusus untuk bentuk chuck dan profil tegangan tertentu. Jika ingin melakukan modifikasi, diperlukan penyesuaian yang tepat terhadap dimensi dan karakteristik listriknya. Lakukan uji coba singkat untuk menyetel parameter PID dan daya radiasi sesuai dengan jenis pelarut dan bahan yang digunakan.
Umur pakai pemanas bergantung pada tingkat kebersihan lingkungan sekitar serta pola penggunaan daya listrik. Pastikan kadar partikel di udara tetap rendah, dan hindari siklus on/off yang cepat agar lampu dan komponen kuarsa tetap utuh.