반도체 소자 특성 분석용 히터

팹에서는 웨이퍼 단계의 특성 분석 및 포토레지스트 건조 과정에서 온도 변동이라는 문제가 발생합니다. 이는 단순히 추상적인 지표가 아니라, 선폭 오차나 잔여 필름 형성, 수율 저하와 같은 실제적인 문제로 나타납니다. 우리는 이러한 변동성을 제거하기 위해 반도체 소자 특...