
Trên sàn wafer, tính ổn định nhiệt độ trong giai đoạn rửa không phải là một yếu tố tùy chọn. Nó là một biến kiểm soát quy trình thực sự.
Nếu để nhiệt độ nước rửa dao động, bạn sẽ bắt đầu thấy cặn photoresist và viền mép bám lại. Số lượng hạt bụi tăng lên, và các lô đạt chuẩn bị loại bỏ. Chúng tôi đã thiết kế đèn hồng ngoại chống thấm nước cho bước rửa để giữ độ đồng đều nhiệt vùng rửa trong phạm vi ±0.1°C, giúp bước rửa vận hành như một công thức cố định, không phải phỏng đoán.
Điều gì bên trong
Đèn sử dụng bộ phát bước sóng hồng ngoại ngắn trong vỏ kín đạt chuẩn IP67, chịu được phun trực tiếp, ngưng tụ và các chất tẩy rửa mạnh mà không bị trôi nhiệt. Sưởi ấm cấp wafer có tính lặp lại vì mảng phát xạ được bố trí phù hợp với hình học đế nền, không phải với bộ gá.
Chúng tôi đã điều chỉnh mật độ công suất và bước sóng để hấp thu hiệu quả vào nước và màng mỏng, giữ quán tính nhiệt thấp. Điều này cho phép làm nóng nhanh và tập trung—không gây tiếng ồn khí nén, không sinh hạt bụi từ quạt thổi.
Tại sao phù hợp với bước rửa
Tại các trạm rửa, bạn cần nhiệt nhanh, rồi phải dừng ngay lập tức. Đèn đạt điểm đặt trong vài giây, giữ nhiệt ổn định không vượt xung, và tắt sạch sẽ. Điều này bảo vệ ngân sách nhiệt của photoresist sau khi đã trải qua soft bake và hard bake.
Cấu trúc chống thấm giữ lượng hạt trong phòng sạch ổn định, và đáp ứng điều khiển hỗ trợ vận hành liên tục 24/7 mà không bị gián đoạn không lường trước do hơi ẩm xâm nhập. Kết quả là kiểm soát kích thước quan trọng chặt chẽ hơn, ít phải làm lại hơn, và tiết kiệm năng lượng vì nhiệt được đưa chính xác đến nơi quy trình cần.
Cần lưu ý
Các đèn này được thiết kế đáp ứng tiêu chuẩn thiết bị bán dẫn quốc tế và là lựa chọn thay thế được xác nhận tương đương cho các nền tảng hiện có. Việc lắp đặt cần khớp giao diện điện và xác nhận mặt phẳng lắp đặt.
Hiện tượng chạy nhiệt quá mức chỉ được ngăn chặn khi bộ điều khiển và cảm biến được hiệu chỉnh như một vòng kín chính xác. Cần có điểm phản hồi nhiệt độ riêng biệt tại vùng rửa, và đảm bảo công thức quy trình tính đến thời gian tăng nhiệt của đèn, nhanh hơn các thiết bị sưởi nhúng truyền thống.