در خط تولید، اختلافات دمایی در حین فرآیندهای پختن رزیستورهای فوتوالکتریکی یا خشک کردن ویفرها، تنها یک مشکل ساده نیست؛ بلکه این اختلافات باعث تغییر ابعاد مهم ویفرها شده و به طور مداوم باعث کاهش کیفیت محصولات میشوند. ما لامپ گرمایشی TEL را طوری طراحی کردهایم که دمای فرآیند را در هر چرخه، ثابت نگه دارد.
چه چیزی اهمیت دارد؟
این لامپ از یک فرستنده هالوژنی با طول موج کوتاه درون یک پوشش کوارتزی با خلوص بالا استفاده میکند؛ همچنین از روش کنترل حلقه بسته برای کنترل دما استفاده میشود. این روش باعث میشود یکنواختی دمای ویفرها در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ شود. پاسخ این لامپ سریع است؛ بنابراین در حین فرآیندهای پختن، دما از حد مجاز فراتر نمیرود.
در اتاقهای پاکسازی کلاس ۱–۱۰۰، تولید ذرات غیرقابل قبول است؛ این طراحی باعث میشود تعداد ذرات حتی پس از هزاران چرخه گرمایشی، ثابت باقی بماند. تکرارپذیری عملکرد لامپ برای بیش از ۵۰۰۰ ساعت حفظ میشود و اختلاف دما نیز در حد کمتر از ۵٪ باقی میماند.
چرا این لامپ مناسب این فرآیندهاست؟
فرآیندهای لیتوگرافی نیاز به کنترل دقیق دما دارند؛ این لامپ باعث ایجاد الگوهای گرمایشی قابل تکرار در حین فرآیندهای پختن میشود؛ این امر به کاهش هزینهها، بهبود کنترل ابعاد ویفرها و کاهش مواد باطله کمک میکند.
برای تمیز کردن و خشک کردن ویفرها، این لامپ رطوبت سطحی ویفرها را بدون ایجاد استرس حرارتی برمیدارد؛ بنابراین میتوانید با استفاده از مواد کمتر، فرآیند را سریعتر انجام دهید. در فرآیند بستهبندی نیز، این لامپ باعث خشک شدن سریع و یکنواخت مواد مورد استفاده میشود؛ این امر باعث کاهش زمان استفاده از فر و کاهش مصرف انرژی میشود. نتیجه این امر، کاهش تعداد کارهای تکراری، بهبود کیفیت محصولات و برنامهریزی قابل پیشبینی است.
جزئیات عملی:
این لامپ میتواند در پلتفرمهای استاندارد TEL نصب شود؛ اما تنظیم موقعیت لامپ نسبت به ویفر بسیار مهم است؛ فاصله لامپ تا ویفر باید در حد زیر یک میلیمتر باشد. برای رسیدن به عملکرد بهینه، نیاز به یک دوره روشن شدن کوتاه وجود دارد؛ همچنین باید قبل از استفاده، لامپ را به آرامی گرم کرد. برای حفظ عمر لامپ و حفظ یکنواختی دما، باید از پروفیلهای تغذیه الکتریکی مشخص شده استفاده کرد.