फैब फ्लोर पर, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने या वेफरों को सुखाने की प्रक्रिया में होने वाला थर्मल ड्रिफ्ट एक बड़ी समस्या है। इसके कारण महत्वपूर्ण आयामों में परिवर्तन हो जाता है, जिससे उत्पादन दर में कमी आ जाती है। हमने टीईएल हीटर लैंप बनाया है, ताकि प्रक्रिया का तापमान हर बार स्थिर रहे।
क्या महत्वपूर्ण है?
इस लैंप में उच्च-शुद्धता वाले क्वार्ट्ज कवर में शॉर्ट-वेव हैलोजन एमिटर है; इसके साथ ही बंद-लूप नियंत्रण प्रणाली भी है। इसके कारण वेफरों पर तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है। प्रतिक्रिया तेज होती है, इसलिए सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक के दौरान तापमान में अतिरिक्त वृद्धि नहीं होती।
क्लास 1–100 क्लीनरूमों में…
ऐसे वातावरण में कणों का उत्पन्न होना अस्वीकार्य है। यह डिज़ाइन हजारों थर्मल चक्रों के बाद भी कणों की संख्या को स्थिर रखता है। 5,000 घंटों तक भी उत्पादन की गुणवत्ता स्थिर रहती है, एवं तापमान में वृद्धि 5% से कम ही रहती है।
यह प्रक्रिया के लिए क्यों उपयुक्त है?
लिथोग्राफी प्रक्रिया में तापमान का नियंत्रण बहुत महत्वपूर्ण है। यह लैंप सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक के दौरान स्थिर तापमान प्रदान करता है; इससे अपशिष्ट कम होता है, एवं CD नियंत्रण भी बेहतर होता है।
वेफरों की सफाई एवं सुखाने हेतु…
यह लैंप वेफरों की सतह से नमी हटाता है, बिना किसी थर्मल तनाव के। इससे कम सामग्री का उपयोग होता है, एवं प्रक्रिया तेज हो जाती है। पैकेजिंग हेतु, यह लैंप एनकैप्सुलेंटों को जल्दी एवं समान रूप से सूखा देता है; इससे ओवन में लगने वाला समय कम हो जाता है, एवं ऊर्जा की खपत भी कम हो जाती है। परिणामस्वरूप, पुनर्कार्य कम हो जाता है, SPC बेहतर हो जाता है, एवं कार्यक्रम भी पूर्वानुमेय रहते हैं।
व्यावहारिक विवरण…
यह लैंप मानक टीईएल प्लेटफॉर्मों पर ही उपयोग में आता है। लेकिन लैंप एवं वेफर के बीच की दूरी को सटीक रूप से नियंत्रित करना आवश्यक है। उत्पादन क्षमता को स्थिर रखने हेतु थोड़ा समय आवश्यक है; इसलिए प्रारंभ में ही नियंत्रित तरीके से गर्म करना आवश्यक है। एमिटर की उम्र बढ़ाने एवं ±0.1°C की स्थिरता बनाए रखने हेतु निर्धारित विद्युत आपूर्ति प्रोफाइलों का ही उपयोग करना आवश्यक है।