Berhentilah membuang-buang waktu untuk mengeringkan wafer MEMS Anda. Jika Anda masih menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer setelah proses etching atau pembersihan, sebenarnya Anda hanya membuang-buang waktu saja.
Saya sering melihat hal ini di banyak bengkel. Penggunaan udara panas memang terlihat efektif, tetapi prosesnya lambat. Udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, lalu udara tersebut baru digunakan untuk memanaskan wafer. Proses ini memperpanjang waktu yang diperlukan untuk menyelesaikan pekerjaan.
Inilah keunggulan penggunaan pemanas inframerah (IR): Pemanas IR tidak perlu memanaskan udara terlebih dahulu. Radiasi elektromagnetik langsung ditujukan ke permukaan wafer. Suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam hitungan detik, bukan menit.
Dalam proses pengolahan semikonduktor yang kompleks, penghematan waktu ini sangat penting. Wafer dapat diproses lebih cepat, sehingga proses produksi menjadi lebih efisien. Namun, perlu diingat bahwa penggunaan IR membutuhkan kontrol yang tepat. Jika pengontrol PID tidak disetel dengan benar, suhu wafer bisa berlebihan, sehingga merusak struktur MEMS atau menyebabkan overheating pada wafer tersebut.
Udara panas masih bisa diandalkan, tetapi IR tidak demikian. Meski begitu, jika Anda bekerja dalam skala besar, IR merupakan pilihan yang tepat. Alat-alat yang digunakan juga lebih kecil dibandingkan oven konvektor biasa, sehingga Anda dapat menyelesaikan lebih banyak pekerjaan tanpa memakan ruang yang banyak.
Selain itu, konsistensi suhu yang dihasilkan oleh IR sangat baik. Suhu yang dihasilkan merata di seluruh permukaan wafer. Anda tidak perlu khawatir lagi tentang noda air atau sisa kimia yang muncul akibat aliran udara yang tidak stabil.
Jika Anda ingin meningkatkan kapasitas produksi, inilah setup yang cocok untuk Anda. Hanya perlu diperhatikan: pastikan sistem pendinginan Anda mampu menangani panas yang dihasilkan oleh IR. Anda tidak ingin alat-alat lainnya rusak saat Anda sedang mengeringkan wafer.