Berhentilah menunggu oven Anda sampai panas: Mengapa IR menjadi pilihan terbaik di fasilitas manufaktur semikonduktor
Jika Anda pernah bekerja di bidang pemrosesan semikonduktor, pasti Anda tahu betapa menyebalkannya harus menunggu ruangan tersebut mencapai suhu yang diinginkan. Selama bertahun-tahun, kita menggunakan udara panas untuk memanaskan wafer, dengan harapan udara tersebut akan berhasil membuat wafer mencapai suhu yang tepat. Namun belakangan ini, cara ini sudah tidak digunakan lagi. Semakin banyak orang yang beralih ke metode pemanasan menggunakan radiasi inframerah (IR).
Perbedaannya sangat sederhana. Metode pemanasan menggunakan udara panas berlangsung secara lambat. Udara dipanaskan terlebih dahulu, lalu udara tersebut memanaskan dinding-dinding ruangan, dan akhirnya dinding-dinding tersebut memanaskan permukaan wafer. Proses ini membutuhkan banyak tahap. Sedangkan metode IR tidak memerlukan proses seperti itu. Radiasi IR langsung menuju ke permukaan wafer tanpa melalui media apa pun.
Cepat sekali.
Dengan metode udara panas, proses pemanasan berlangsung sangat lambat. Anda mungkin perlu menunggu beberapa menit, bahkan jam-jam, hanya untuk menunggu suhu mencapai target yang diinginkan. Sebaliknya, lampu IR dapat menghasilkan panas dalam hitungan detik saja. Bagi mereka yang menjalankan fasilitas manufaktur semikonduktor, hal ini berarti waktu produksi yang lebih singkat, serta penghematan biaya akibat pemborosan energi untuk memanaskan udara yang tidak berguna.
Namun, Anda tidak bisa sembarangan menggunakan bohlam biasa. Kami menggunakan pelindung berbahan kuarsa berkualitas tinggi. Pelindung ini berfungsi sebagai “pelindung” bagi elemen pemanas, sehingga kotoran tidak bisa masuk, sementara radiasi IR tetap dapat melewati pelindung tersebut.
Selain itu, kuarsa juga tahan terhadap benturan. Jika Anda menggunakan kaca biasa, kemungkinan besar kacanya akan hancur begitu daya listrik dihidupkan.
Tentu saja, ini bukan solusi ajaib. Masih ada beberapa kelemahan. Karena radiasi IR bersifat terarah, maka hanya bagian yang berada dalam jangkauan radiasi tersebut yang akan dipanaskan. Jika permukaan wafer memiliki bentuk yang aneh atau memiliki celah-celah, maka akan ada bagian-bagian yang tetap dingin. Anda perlu memperhatikan posisi lampu dan sudut reflektor agar panasnya dapat merata ke seluruh permukaan wafer.
Meski begitu, menggunakan metode IR merupakan pilihan yang baik bagi siapa saja yang ingin mengurangi waktu produksi. Dengan demikian, Anda tidak perlu lagi berjuang melawan hambatan fisika yang disebabkan oleh udara, karena Anda dapat memanfaatkan kecepatan cahaya untuk proses pemanasan.
Sebagai catatan: pastikan sistem pendinginan Anda cukup kuat. Panas yang dihasilkan oleh lampu IR sangat tinggi, sehingga sistem pendinginan perlu bekerja maksimal.