산업용 웨이퍼 건조 시스템 히터
반도체 제조 공정에서는, 건조 장치 위에 있는 1나노미터 미만의 미세 입자들이 단 몇 초 만에 300mm 크기의 웨이퍼를 파괴할 수 있습니다. 구식 히터들은 정확한 온도 제어가 어렵으며, 포토레지스트 처리 후에는 열 불균일성으로 인해 선의 너비에 변동이 생깁니다. 따...
웨이퍼용 맞춤형 적외선 히터
리소그래피 공정에서는 포토레지스트를 건조시키는 과정이 단순한 권장 사항이 아니라 반드시 준수해야 할 필수 조건입니다. 0.5°C만큼의 온도 변동이 있어도 치명적인 결과를 초래할 수 있으며, 고온 영역의 불균일성은 전체 생산량에 악영향을 미칩니다. 따라서 특정 공급업체...