Di bilik pengeluaran, lengkung suhu plat pemanas tersebut bukan sahaja digunakan untuk memanaskan wafer, tetapi juga untuk menentukan parameter proses yang diperlukan. Perbezaan suhu sebanyak beberapa darjah semasa proses pembakaran lembut atau keras sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal wafer, menyebabkan perubahan pada sudut sisi wafer, dan seterusnya merosakkan kualiti wafer tersebut. Pemanas yang digunakan di bengkel pengeluaran kami direka agar dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap wafer, iaitu antara ±0.1°C, supaya profil fotoresist kekal stabil sepanjang proses litografi dan etching.
Apa yang penting dalam reka bentuk pemanas ini
Kami menggunakan pemancar gelombang pendek berbahan kuarsa-halogen bersama-sama dengan blok pemanas yang mempunyai jisim haba yang rendah. Ini membolehkan proses pemanasan berlaku dengan cepat dan secara konsisten. Sistem kawalan pula menggunakan sensor yang telah dikalibrasi, yang diposisikan di atas permukaan wafer, bukan pada badan pemanas itu sendiri. Dengan cara ini, nilai suhu yang ditetapkan akan selaras dengan suhu sebenar wafer. Pemanas ini juga memenuhi syarat-syarat bilik bersih kelas 1–100, tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer, dan boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan. Ketepatan output pemanas ini kekal dalam lingkungan 0.2% selepas 5,000 jam operasi, sekaligus memastikan konsistensi suhu antara setiap batch wafer yang dihasilkan.
Mengapa pemanas ini efektif dalam proses pengeluaran
Dalam stesen pembakaran, kita memerlukan profil suhu yang seragam setiap kali. Pembakaran lembut digunakan untuk menghilangkan bahan pelarut, manakala pembakaran keras digunakan untuk mengeras lapisan pelindung wafer. Jika suhu melebihi had yang ditetapkan, ia akan menyebabkan pembentukan lapisan yang tidak diingini; jika suhu terlalu rendah, ia akan meninggalkan sisa-sisa bahan yang boleh merosakkan wafer. Pemanas ini memastikan suhu pembakaran tetap stabil, mengurangkan jumlah bahan buangan, dan memendekkan masa proses pembakaran. Penggunaan tenaga pula disesuaikan dengan beban haba yang diperlukan, sehingga kos operasi dapat dikurangkan tanpa mengorbankan kelajuan proses pembakaran.
Beberapa nota praktikal
Unit pemanas ini memerlukan sumber kuasa yang khusus dan terlindung, serta bekalan kuasa yang bersih dan kering. Jika penyambungnya diganti, ia boleh menyebabkan perubahan kalibrasi sebanyak beberapa persepuluh darjah. Pastikan reka letak unit pemanas sesuai dengan ruang yang tersedia, dan pastikan prosedur pembakaran telah disesuaikan sebelum digunakan. Kami menyediakan kaedah kalibrasi serta template prosedur pembakaran untuk proses pembakaran lembut dan keras. Namun, integrasi pemanas ini masih bergantung pada penyesuaian antara susunan wafer dan persekitaran bilik pembakaran.