Op de productielijn zorgt deze temperatuurcurve er niet alleen voor dat de wafer wordt opgewarmd – het bepaalt ook de mogelijkheden van het productieproces. Een verschil van een paar graden tijdens het zachte of harde bakken is al voldoende om de belangrijke dimensies van de wafer te veranderen, de hoeken van de wanden te verstoren en de kwaliteit van de wafer onder de vereisten te brengen. Onze verwarmingseenheden zijn ontworpen om een constante temperatuur op het oppervlak van de wafer te behouden, met een foutmarge van ±0,1°C. Hierdoor blijft het profiel van de fotoresist stabiel tijdens het proces.
Wat belangrijk is onder de motorkap
We gebruiken kwarts-halogeenemitters in combinatie met een verwarmingseenheid met lage thermische massa. Hierdoor kunnen de temperaturen snel en nauwkeurig worden geregeld. De controlecyclus maakt gebruik van gekalibreerde sensoren die zich op het oppervlak van de wafer bevinden, zodat de ingestelde temperatuur overeenkomt met de werkelijke temperatuur op het oppervlak van de wafer. De apparaten voldoen aan de eisen van schone ruimtes van klasse 1–100. Er worden geen deeltjes gegenereerd (dit is in situ gecontroleerd). De apparaten kunnen 24/7 draaien zonder onverwachte stilstand. De herhaalbaarheid van de output blijft binnen 0,2% na 5.000 uur gebruik, zodat de thermische parameters consistent blijven.
Waarom dit werkt in het assemblage- en bakproces
In de bakstations moet het profiel elke keer hetzelfde zijn: een zacht bakken om oplosmiddelen te verwijderen, en een hard bakken om de maskerlaag te verharden. Te hoge temperaturen kunnen leiden tot ongewenste effecten; te lage temperaturen veroorzaken restanten. Deze verwarmingseenheid zorgt ervoor dat het bakproces volgens plan verloopt, waardoor afval wordt verminderd en de cyclustijd wordt verkort. De energieverbruik past zich aan de thermische belasting aan, zodat de bedrijfskosten omlaag gaan zonder dat de snelheid van het proces wordt beperkt.
Nog wat praktische tips
De apparaten hebben een aparte, beschermd aangesloten stroomvoorziening nodig, evenals een schone en droge stroomvoorziening. Anders kan de uniformiteit van de temperatuur veranderen. Het vervangen van connectoren op locatie kan de kalibratie veranderen met een paar tienden van een graad. Plan de installatie goed en controleer eerst of het profiel klopt voordat je de apparaten in gebruik neemt. We leveren kalibratiemappen en sjablonen voor zowel het zachte als het harde bakken. Uiteindelijk hangt de integratie af van de samenstelling van de wafer en de omgeving in de kamer.