In der Fertigungshalle ist die Temperaturschwankung während der Charakterisierung der Wafer sowie beim Trocknen des Photoresists keine abstrakte Größe – sie zeigt sich in Form von Fehler im Linienbreitenwert, verbleibenden Schichten auf dem Wafer sowie einem Rückgang der Ausbeute. Wir haben unseren Heizer für die Charakterisierung von Halbleiterbauelementen so konzipiert, dass diese Schwankungen ausgeschlossen werden. Dadurch bleibt das thermische Budget innerhalb der vorgegebenen Grenzen – ohne dass man ständig versuchen muss, dieses Budget einzuhalten.
Was technisch wichtig ist: Unser Kurzwellen-Infrarot-Heizer ermöglicht eine schnelle, kontrollierte Erwärmung mit einer Genauigkeit von ±0,1°C. Die Reaktionszeit ist so kurz, dass die Temperatur innerhalb von Sekunden stabilisiert wird – dadurch verkürzt sich die Prozesszeit, ohne dass die Wiederholgenauigkeit beeinträchtigt wird. Der Heizer kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, ohne dass es zu Partikelentstehung kommt – dies wurde vor Ort überprüft. So erhalten Sie 24/7 Zuverlässigkeit ohne unplanmäßige Stillstände. Zudem wird durch die genaue Temperaturregulierung sichergestellt, dass sowohl das weiche als auch das harte Trocknungsverfahren innerhalb der vorgegebenen Spezifikationen stattfindet – Charge für Charge.
Warum das funktioniert: In den Lithografieanlagen übernimmt der Heizer die Trocknung der Wafer, das Vortrocknen des Photoresists sowie das Nachtrocknen. Dabei wird stets die vorgegebene Temperatur eingehalten. Das bedeutet weniger Nacharbeiten, weniger Ausschuss und eine stabile Kontrolle der CD-Werte während der Entwicklung und Pilottests. Der Energieverbrauch sinkt, da die thermische Masse gering ist und die Betriebsdauer kurz ist. Zudem verbreitert sich das Prozessfenster, da die thermischen Schwankungen minimiert werden. Für die Charakterisierung von Halbleiterbauelementen sorgt diese Stabilität dafür, dass die Messungen wiederholbar sind – so sind die Daten von Charge zu Charge sowie von Wafer zu Wafer vergleichbar.
Ein paar praktische Details: Die Installation erfordert lediglich die richtige Anpassung der Schnittstelle zum Wafer sowie die Überprüfung der Infrarot-Strahlung durch das Fenster der Kammer – wir liefern dazu die notwendigen Dimensionen sowie Protokolle für die Überprüfung. Das System funktioniert am besten, wenn die Ausrichtung des Reflektors präzise ist und die Lampe innerhalb ihrer zulässigen Leistungsdichte betrieben wird. Eine Überbelastung verkürzt die Lebensdauer der Lampe und kann zu Temperaturschwankungen führen. Planen Sie daher regelmäßige Austauschaktionen der Lampen sowie Routinekalibrierungen, um Stabilität und Wiederholgenauigkeit zu gewährleisten.