赤外線乾燥と対流乾燥の比較 ウェーハ乾燥の場合

ファブフロアでは、洗浄後や溶剤がフォトレジスト内に閉じ込められた後のウォーターマークは単なる局所的な欠陥ではありません。それらは連鎖的に拡大し、ライン幅の偏差、パーティクル数の増加、スクラップへと直結します。水分を除去しフィルムを安定化させる熱工程は単なる背景ノイズではなく、省略できない制御ポイン...