Di bilik pengeluaran yang bersih, perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan fotoresist atau pengeringan wafer bukan sekadar masalah kecil. Perubahan suhu ini akan mengubah dimensi-dimensi penting wafer, dan seterusnya menurunkan kualiti produk yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu pemanas TEL untuk memastikan suhu proses kekal stabil, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.
Apa yang penting di sebalik reka bentuk ini
Lampu ini menggunakan pemancar halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di dalam bekas kuarsa yang sangat bersih. Sistem kawalan berlaku secara tertutup, sehingga membolehkan suhu wafer kekal pada tahap ±0.1°C. Tindak balas lampu ini sangat cepat, jadi tidak akan berlaku peningkatan suhu yang berlebihan semasa proses pembakaran.
Dalam bilik bersih kelas 1–100, penghasilan zarah-zarah berbahaya adalah perkara yang mustahil untuk dielakkan. Reka bentuk ini memastikan jumlah zarah tetap stabil walaupun selepas ribuan kitaran pemanasan. Ketepatan hasil pengeluaran dapat dipertahankan selama 5,000 jam, dengan perubahan suhu yang kurang dari 5%.
Mengapa ia sesuai untuk proses pengeluaran
Proses litografi memerlukan kawalan suhu yang tepat. Lampu ini membantu memastikan profil pemanasan yang konsisten semasa proses pembakaran, sekali gus mengurangkan pembaziran bahan dan meningkatkan kualiti produk. Untuk proses pembersihan dan pengeringan wafer, lampu ini dapat menghilangkan kelembapan pada permukaan wafer tanpa menyebabkan tekanan haba yang berlebihan. Dengan cara ini, proses pengeluaran dapat dilakukan lebih cepat dengan penggunaan bahan yang lebih sedikit. Dalam proses pembungkusan pula, lampu ini dapat mempercepat proses pengeringan bahan-bahan yang digunakan, sekaligus mengurangkan masa yang diperlukan dan penggunaan tenaga. Kelebihannya ialah kurangnya keperluan untuk melakukan kerja-kerja pembetulan, hasil pengeluaran yang lebih berkualiti, dan jadual pengeluaran yang lebih boleh diramal.
Butiran praktikal
Lampu ini boleh dipasang pada platform TEL biasa, dengan sambungan dan cara pemasangan yang sesuai. Namun, penentuan kedudukan lampu sangat penting – jarak antara lampu dan wafer perlu dikawal dengan teliti semasa pemasangan. Perlu ada tempoh masa untuk lampu beroperasi sepenuhnya sebelum ia digunakan. Ikut arahan penggunaan kuasa yang ditetapkan untuk melindungi umur lampu dan memastikan suhu tetap stabil pada tahap ±0.1°C.