Di bilik pengeluaran yang canggih ini, faktor yang mempengaruhi kualiti produk adalah suhu – ia sangat penting. Sebarang perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan fotoresist, atau adanya kawasan sejuk pada permukaan wafer semasa proses penyembuhan, boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal produk, peningkatan jumlah zarah berbahaya, dan akhirnya menjadikan produk yang berkualiti tinggi menjadi barang buangan. Kami mencipta pemanas berasaskan karbon nanotube untuk menghilangkan masalah berkaitan suhu dalam proses pengeluaran ini.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami memilih elemen pemanas berasaskan karbon nanotube kerana ia bertindak balas dengan cepat, memberikan pemanasan yang tepat pada kawasan tertentu, dan mempunyai kestabilan yang tinggi. Ia digabungkan dengan gelombang inframerah pendek (NIR) untuk memastikan tenaga dipindahkan dengan efisien. Hasilnya, suhu di seluruh kawasan aktif wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula adalah ±0.2°C. Kawalan suhu yang baik memastikan proses berjalan tanpa masalah, dan kestabilan suhu dapat dipertahankan sepanjang proses pemanasan. Reka bentuk ini juga menghasilkan tiada zarah berbahaya, dan sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Sistem pengesanan berbentuk lingkaran tertutup memastikan sistem berfungsi dengan baik dari masa ke masa, tanpa gangguan.
Mengapa ini penting dalam litografi dan bidang lain
Dalam litografi, proses pemanasan yang konsisten diperlukan untuk mencapai viskositi fotoresist yang sesuai serta untuk menghilangkan bahan pelarut. Dalam proses penyembuhan, proses pengikatan antara komponen-komponen perlu dilakukan secara konsisten agar pola yang dihasilkan tetap stabil. Pemanas berasaskan karbon nanotube membantu mencapai keseragaman dan ketepatan yang diperlukan, sehingga memudahkan kawalan dimensi produk. Proses pengeringan wafer juga menjadi lebih efisien, dengan lebih sedikit kecacatan pada permukaan wafer dan kurangnya keperluan untuk membaiki produk.
Tindak balas yang cepat memendekkan masa proses, manakala penggunaan tenaga yang efisien melalui gelombang inframerah pendek mengurangkan penggunaan tenaga untuk setiap batch. Ini membolehkan proses berjalan lebih lancar, mengurangkan pembaziran bahan, dan memanjangkan jarak waktu pemeliharaan peralatan.
Apa yang perlu dirancang
Pemanas berasaskan karbon nanotube memerlukan antaramuka kuasa dan kawalan yang sesuai dengan spesifikasi peralatan anda. Anda perlu meluangkan sedikit masa untuk menyesuaikan tetapan pemanasan agar sesuai dengan jenis fotoresist dan substrat yang digunakan. Walaupun sistem ini sangat reliable, anda masih perlu memastikan adanya sambungan termal yang baik antara pemanas tersebut dengan alat yang digunakan. Setelah semuanya disusun dengan baik, proses akan berjalan dengan stabil. Perubahan hanya dapat dilakukan apabila anda memilih untuk melakukannya.