Di bilik bersih kelas 1–100 ini, kita akan belajar dengan cepat bahawa perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk mengubah profil fotoresist. Jika pemanasan berlaku secara tidak sekata di bahagian tepi, ia akan menyebabkan ketidakseragaman pada permukaan wafer. Dalam bilik bersih seperti ini, satu zarah sahaja daripada pemanas boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Oleh itu, kami membina ketuhar di bilik bersih ini menggunakan pemanas inframerah yang memastikan suhu tetap stabil pada tahap yang sesuai – iaitu pada permukaan wafer, bukannya merebak ke seluruh bilik.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan pemanas inframerah gelombang pendek untuk pemanasan langsung, dengan masa tindak balas yang singkat. Sistem kawalan berputar memastikan suhu di seluruh permukaan wafer kekal seragam pada tahap ±0.1°C. Ini membolehkan proses pemanasan berjalan dengan baik, tanpa sebarang masalah. Badan pemanas diperbuat daripada bahan tahan karat, dengan sambungan yang tertutup dan bahan yang kurang mengeluarkan gas. Reka bentuk ini memastikan tiada zarah terhasil semasa proses pemanasan. Konstruksi bilik bersih yang berkualiti tinggi memastikan unit ini sesuai digunakan di tempat di mana kualiti udara diukur dalam unit zarah per kaki padu.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses pengeluaran
Fotoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Keseragaman suhu yang tinggi membantu mengelakkan masalah pada permukaan wafer, serta memudahkan kawalan dimensi kritikalnya. Ini seterusnya mengurangkan keperluan untuk pembetulan atau pembaziran bahan. Masa tindak balas yang cepat membolehkan proses pemanasan berjalan lebih cepat, tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan. Selain itu, haba disalurkan terus ke permukaan wafer, bukan ke dinding atau sistem pengudaraan, sehingga penggunaan tenaga dapat dikurangkan. Kadar operasi yang tinggi merupakan petunjuk kebolehpercayaan sistem ini – sistem ini boleh beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan.
Perkara yang perlu diperhatikan
Pemanasan inframerah memerlukan pandangan langsung antara pemanas dan objek yang dipanaskan. Oleh itu, orientasi dan jarak wafer perlu disesuaikan dengan susunan ruang pemanasan. Jika pemanas terhalang, kawasan tertentu akan menjadi sejuk. Semak voltan dan keserasian kabel dengan pengawal ketuhar sebelum pemasangan, dan pastikan saluran pengudaraan sesuai dengan aliran udara di bilik bersih. Lakukan pemeriksaan berkala pada pemanas untuk memastikan suhu tetap seragam sepanjang proses pengeluaran.