Stop met het verspillen van tijd aan het drogen van uw MEMS-wafers
Als u nog steeds gebruikmaakt van hete lucht om de wafers te drogen na het etchen of reinigen, dan wacht u eigenlijk zinloos af.
Ik zie dit vaak in bedrijven gebeuren. Hete lucht lijkt misschien een goede oplossing, maar het proces is langzaam. Eerst moet de lucht worden verhit, en daarna moet die lucht op zijn beurt de wafer verwarmen. Het is een tijdrovend proces dat de totale werktijd verlengt.
Hier is het voordeel van infraroodstraling:
Infraroodverwarmers hebben geen last van de luchtkwaliteit. Ze stralen elektromagnetische golven rechtstreeks op het oppervlak van de wafer. U bereikt het gewenste temperatuurniveau in seconden – niet in minuten.
Bij diep semiconductieproceswerk zijn deze bespaarde minuten erg belangrijk. Uw wafers kunnen sneller worden verwerkt, waardoor u uw batches eerder af hebt. Het proces verloopt ook soepeler.
Maar let op: het is niet zo simpel als alleen maar een gloeilamp vervangen. Infraroodstraling heeft een hoge warmtedichtheid. Als uw PID-regelaars niet perfect zijn afgesteld, kan dit tot problemen leiden. U loopt het risico dat de MEMS-structuur beschadigd raakt of dat de hele apparatuur oververhit raakt. U heeft dus een nauwkeurig feedbacksysteem nodig.
Hete lucht is vergelijkbaar tolerant, maar infraroodstraling doet dat niet.
Toch is infraroodstraling de beste optie als u met grote hoeveelheden wafers werkt. De apparaten zijn kleiner dan die enorme convectieovens, zodat u meer kunt verwerken zonder dat het te veel ruimte inneemt. Bovendien zorgt infraroodstraling voor een uniforme warmtestroom over het oppervlak van de wafer. U hoeft zich geen zorgen meer te maken over watervlekken of chemische residuen die ontstaan wanneer de luchtcirculatie niet goed werkt.
Als u uw productie wilt uitbreiden, is dit de juiste oplossing. Let er echter op dat uw koelsysteem in staat is om de extra hitte aan te kunnen. Anders kunnen de andere apparaten oververhit raken terwijl u de wafers droogt.