เลิกรอให้เตาอบร้อนกันเถอะ: ทำไมเทคโนโลยี IR ถึงได้รับความนิยมในกระบวนการผลิตชิป
หากคุณเคยมีส่วนร่วมในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์มาก่อน คุณคงเข้าใจดีว่าการรอให้เตาอบร้อนนั้นเป็นเรื่องน่ารำคาญมาก ตลอดหลายปีที่ผ่านมา เราใช้ลมร้อนเพื่อให้อุณหภูมิของ wafer สูงขึ้น แต่ปัจจุบันสถานการณ์เปลี่ยนไปแล้ว เราเริ่มเลิกใช้ลมร้อนและหันมาใช้เทคโนโลยีการให้ความร้อนด้วยรังสีอินฟราเรดแทน
ความแตกต่างก็คือ การใช้ลมร้อนนั้นเป็นกระบวนการที่ช้ามาก คุณต้องใช้เวลานานหลายนาที หรือแม้แต่หลายชั่วโมง เพื่อรอให้อุณหภูมิถึงระดับที่ต้องการ แต่เทคโนโลยี IR นั้นสามารถให้ความร้อนได้อย่างรวดเร็ว รังสีอินฟราเรดจะเดินทางตรงจากหลอดไฟไปยังวัสดุที่ต้องการให้ร้อนได้เลย
มันเร็วมากจริงๆ
การใช้ลมร้อนนั้นมีข้อเสียคือมีความล่าช้ามาก คุณอาจต้องใช้เวลาหลายนาที หรือแม้แต่หลายชั่วโมงเพื่อรอให้อุณหภูมิถึงระดับที่ต้องการ แต่หลอดไฟ IR นั้นสามารถให้ความร้อนได้ทันทีที่เปิดใช้งาน สำหรับผู้ที่ดำเนินการผลิตชิปแล้ว นั่นหมายถึงการลดเวลาในการผลิต และลดค่าใช้จ่ายในการให้ความร้อนกับอากาศที่ไม่มีประโยชน์
แต่คุณก็ไม่สามารถใช้หลอดไฟธรรมดาได้ เราใช้แผ่นควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูง เพื่อปกป้องหลอดไฟจากสิ่งสกปรก ในขณะที่ยังคงให้รังสีอินฟราเรดสามารถผ่านเข้ามาได้
นอกจากนี้ ควอตซ์ยังสามารถทนต่อแรงกระแทกได้ดี หากคุณใช้แก้วราคาถูก มันอาจแตกได้ทันทีเมื่อมีการใช้พลังงานสูง
แน่นอนว่ามันไม่ใช่วิธีที่สมบูรณ์แบบ ยังมีข้อเสียอยู่บ้าง เพราะรังสีอินฟราเรดมีทิศทางที่ชัดเจน ดังนั้นมันจะให้ความร้อนเฉพาะบริเวณที่มองเห็นได้เท่านั้น หากชิปมีรูปร่างแปลกๆ หรือมีพื้นที่ลึกๆ ก็จะมีจุดที่ไม่ได้รับความร้อน คุณจึงต้องวางแผนอย่างรอบคอบเกี่ยวกับตำแหน่งของหลอดไฟและมุมของกระจกสะท้อน เพื่อให้ความร้อนกระจายตัวอย่างสม่ำเสมอ
อย่างไรก็ตาม การเปลี่ยนมาใช้เทคโนโลยี IR ก็กลายเป็นทางเลือกที่ดีสำหรับผู้ที่ต้องการลดต้นทุนเวลาในการผลิต คุณจะไม่ต้องมานั่งรอให้เตาอบร้อนอีกต่อไป แต่สามารถใช้ความเร็วของแสงแทนได้
เพียงแต่ต้องระวังด้วยว่าระบบระบายความร้อนของคุณต้องแข็งแรงพอ เพราะความร้อนที่สะสมอยู่รอบๆ หลอดไฟนั้นสามารถสูงมากได้