在曝光过程中，光刻胶对任何细微的温度变化都非常敏感。如果烘烤温度偏差达到2°C，就可能导致溶剂残留，进而使图案出现变形。而如果烘烤温度过高，晶圆的边缘区域就会受到影响，蚀刻效果也会变差。因此，我们在洁净室的工作台上配备了红外灯，以此来消除这些温度波动带来的影响。
关键在于其精确的控温能力
该红外灯能够以短波红外光直接照射光刻胶层，从而加热光刻胶本身，而不会影响到其他部件。它能够将整个晶圆上的温度控制在±0.1°C的范围内，而且在不同批次之间的重复性也保持在±0.05°C以内。该灯采用石英-卤素结构，安装在一个符合1级到100级洁净度标准的封闭式环境中，这样就能避免颗粒物进入系统。其功率密度可调节，适用于150毫米到300毫米厚的晶圆，同时还能控制升温速度，确保薄膜在软烘和硬烘过程中仍能保持稳定状态。该系统可以全天候运行，不会出现意外停机的情况，经过5,000小时以上的使用后，其性能仍然能保持在5%以内的误差范围内。
为何它能持续稳定工作
因为它的控温精度恰好符合光刻工艺的要求。该灯能够精准控制软烘、硬烘以及后续处理步骤中的温度，从而确保每一批产品的关键尺寸都保持一致。出色的均匀性可以减少边缘缺陷，降低废品率，同时缩短产品测试的时间。此外，该灯的能耗较低，且响应迅速，因此可以快速完成不同晶圆的切换，而不会影响烘烤效果。
实际应用中的注意事项
该灯需要专用的电源电路以及抗电磁干扰的电缆，这样才能避免与其它曝光设备产生干扰。当更换不同尺寸的晶圆时，需要先进行一段时间的预热，然后再进行温度校准。由于该灯会产生高温且输出功率较高，因此必须按照洁净室的操作规范来处理它。我们还提供了专用更换套件，以便于定期维护，避免影响生产进度。