リソグラフィーの工程において、フォトレジストの加熱処理は単なる推奨事項ではなく、必須の条件です。0.5℃の温度変動だけでも、ウェハの寸法管理に影響を与えます。また、高温領域での不均一性も、全体の歩留まりを低下させてしまいます。そのため、特定のベンダーに頼らず、OEM製品と同等の性能を持つヒーターが必要です。
当社では、フォトレジストのソフトベイクやハードベイクに最適化された、カスタム製の赤外線ヒーターを製造しています。このシステムにより、ウェハ表面の温度分布を±0.1℃以内に抑えることができます。また、設定値の再現性も高く、熱管理をスムーズに行えます。近赤外線エミッターを使用することで、エネルギーを直接ウェハに伝達でき、コマンドから結果が出るまでの遅延が最小限に抑えられます。
このハードウェアは、クラス1～100のクリーンルーム環境に適しており、すべてのインターフェースも粒子の発生を防ぐように設計されています。電力密度、電圧、寸法なども、チャンバーやコネクタの要求に合わせて指定されているため、手直しをすることなく熱制御システムとして利用できます。
当社は、国際的な半導体装置の熱管理基準に沿って性能を検証し、均一性マップや温度上昇時間、負荷下での安定性などの測定データを提供します。これにより、交換時にも正確な判断が可能になります。その結果、安定した加熱プロファイルが得られ、スクラップが減少し、メンテナンスのタイミングも計画しやすくなります。
設置は簡単ですが、熱インターフェースは重要な管理ポイントとして扱う必要があります。機械的な位置合わせやガスケットの圧縮状態を確認し、クリーンな密封状態を維持することが重要です。わずかな漏れでも、粒子の性能に悪影響を与えます。また、キャリアやバッチの特性に合わせてPID調整を行うため、短時間の試運転も行ってください。