空気を加熱するのをやめよう：ファブの脱炭素化におけるより良い方法 半導体製造において実際にカーボンニュートラルを実現したいのであれば、古い抵抗加熱方式に頼るのはやめなければなりません。それらの方式は効率が悪すぎます。私たちは代わりに短波長赤外線システムを利用しています。これは、大規模な対流式オーブ...

短絡を防ぐために：なぜすべてのランプをテストするのか 大量生産用の乾燥ラインでは、1つのランプが故障するだけでも大問題です。コントローラーが破壊されたり、電気系統全体がダメになったりする可能性もあります。そのため、私たちは単にランプを抜き取って検査するだけではありません。出荷前には、すべてのランプ...

空気を加熱するのをやめよう：より効率的なファブの運用方法 正直言って、半導体製造工場は電力を大量に消費します。従来の対流式オーブンを使ったことがある人なら、その状況がどんなものかわかるでしょう。ウェハーを適切な温度にするために、空気や壁、床まですべてを温めてしまいます。これは莫大な電力の無駄遣いで...

クラス100のクリーンルームを本当に清潔な状態に保つためには もしクラス100のクリーンルームを運営しているのであれば、エアフィルターだけでは不十分だということはご存知でしょう。実際の問題は、熱源です。 一般的なヒーターは、このような環境では大変厄介です。温度が上昇すると、ヒーターの表面が剥がれ落...

オーブンの準備を待つのはやめましょう：なぜIR加熱がファブで主流になっているのか 半導体製造に携わったことがある人なら、チャンバーが適切な温度になるのを待つ苦労を知っているでしょう。長年にわたり、私たちは熱風を使ってウェハーを適切な温度にしようとしてきました。しかし最近では、そのやり方が変わってき...

ウェーハ製造ラインでの無駄な電力消費を止めましょう。 もし製造ラインをアップグレードするのであれば、電力を無駄にすることは、実質的にお金を捨てているようなものだということをご存知でしょう。ウェーハを加熱する際には、「大量の熱」だけでは不十分です。そのエネルギーが実際にウェーハの表面に届く必要があり...

序論 ウエハーの製造において、適切な温度管理は単なる細かい点ではありません。それは、良質な製品を得るか、全滅させるかの分かれ道なのです。もしプロセスで0.1度という精度での温度管理が求められる場合、加熱機能は後回しにしてはいけません。それは、正確に調整された装置のように機能しなければなりません。...

パッケージング直前の工程では、ウェーハが最終的な洗浄工程を経て出てくると、時間のカウントダウンが始まります。表面に残った水分は大きな問題となり、空洞や層間剥離、歩留まりの低下を引き起こします。わずかな温度の変動であっても、フォトレジストの品質が損なわれ、再現性が失われてしまいます。したがって、リソ...

ファブ内では、そのヒートプレートの温度曲線は、ウェーハを加熱するだけでなく、プロセスの条件を決定する重要な要素です。ソフトベイクやハードベイクの際に数度の温度変動があるだけで、ウェーハの寸法が変わったり、側壁の角度がずれたりし、歩留まりが規格外になってしまいます。当社のファブ用ヒーターは、ウェーハ...

リソグラフィーフロアにおけるフォトレジストの厳格さ リソグラフィーフロアでは、フォトレジストはドリフトを許しません。ソフトベイクまたはハードベイクプロファイルの2℃の変化で、クリティカルディメンションコントロールが崩れ、ラインが停止します。我々は、熱的安定性が「あれば便利」ではなくプロセスそのもの...

ライン上に置かれたセパレーターフィルムスタックは待機している—薄く、繊細で、一切の妥協を許さない。ひとつの熱ゾーンがずれると、フィルムの含水率分布が変わる。それは後でピンホール、エッジの反り、あるいは寸法のずれとして現れ、次のラミネーション工程で修正できない。バッテリーセパレーターフィルムの乾燥で...