리소그래피 공정에서는, 약간의 온도 변화만으로도 포토레지스트의 특성이 변할 수 있다는 것을 빠르게 깨닫게 됩니다. 또한, 하드 베이크 과정에서 가장자리 부분의 온도가 너무 높아지면, 웨이퍼 표면에 이상 현상이 발생하게 됩니다. 클래스 1–100 등급의 청정실에서는, 히터에서 나오는 단 하나의 입자라도 전체 생산물을 망칠 수 있습니다. 그래서 우리는 적외선 히터를 사용하여 열이 웨이퍼에만 집중되도록 설계했습니다.
기술적으로 중요한 점들 우리는 직접적인 방사열을 위해 단파 적외선 석영 발진기를 사용합니다. 이를 통해 초단시간 내에 반응할 수 있습니다. 클로즈드-루프 제어 시스템 덕분에 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 범위 내로 유지할 수 있으며, 그 결과 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서도 일관된 결과가 얻어집니다. 히터 본체는 스테인리스로 만들어졌으며, 밀폐된 연결부와 낮은 가스 방출량을 가진 재료를 사용하여 입자 생성을 최소화했습니다. 청정실용으로 설계된 구조 덕분에, 입자 수로 오염 정도를 측정하는 환경에서도 안정적으로 작동할 수 있습니다.
실제 공정에서의 효과 포토레지스트는 온도에 매우 민감합니다. 일관된 온도 조절을 통해 웨이퍼 표면의 이상 현상을 줄일 수 있으며, 그 결과 재작업과 폐기물이 줄어듭니다. 빠른 열 반응 덕분에 베이크 시간도 단축됩니다. 또한, 열이 벽이나 배기구가 아닌 웨이퍼에 직접 전달되므로 에너지 소비도 줄어듭니다. 실제로 이 시스템은 계획된 유지보수를 통해 24/7 연속으로 작동할 수 있습니다.
주의해야 할 사항들 적외선 난방의 경우, 발신기와 웨이퍼 사이에 직선적인 시야가 필요합니다. 따라서 웨이퍼의 위치와 간격은 챔버의 구조에 맞아야 합니다. 발신기가 가려지면 온도가 낮은 부분이 생깁니다. 설치하기 전에 전압과 커넥터의 호환성을 반드시 확인해야 하며, 배기 경로도 청정실의 공기 흐름과 일치하도록 해야 합니다. 또한, 공정 내의 온도 일관성을 유지하기 위해 정기적으로 발신기를 점검해야 합니다.