제조 현장에서는 포토레지스트를 가열하거나 웨이퍼를 건조하는 과정에서 발생하는 온도 변동이 단순한 병목 현상에 그치지 않습니다. 이러한 온도 변동은 웨이퍼의 크기를 변화시키고, 결국 생산 효율을 저하시킵니다. 우리는 공정 온도를 매번 일정하게 유지하기 위해 TEL 히터 램프를 개발했습니다.
중요한 요소들 이 램프는 고순도 석영 소재로 만들어진 케이스 안에 단파 할로겐 방출체가 들어 있으며, 이와 함께 폐루프 제어 시스템도 함께 작동합니다. 이를 통해 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지할 수 있습니다. 반응 속도도 매우 빠르기 때문에, 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 온도가 과도하게 상승하는 것을 방지할 수 있습니다.
클래스 1–100급 청정실에서는 입자 생성을 최소화해야 합니다. 이 설계를 통해 수천 번의 열 처리 과정 후에도 입자 수를 일정하게 유지할 수 있습니다. 5,000시간 이상 사용해도 온도 변동은 5% 이하로 유지됩니다.
왜 이 제품이 적합한가? 리소그래피 공정에서는 온도 조절이 매우 중요합니다. 이 램프를 사용하면 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서 일관된 결과를 얻을 수 있어, 낭비를 줄이고 웨이퍼의 크기를 보다 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 웨이퍼 세척 및 건조 과정에서도 표면의 수분을 효과적으로 제거할 수 있어, 더 빠른 속도로 작업을 진행할 수 있습니다. 패키징 과정에서는 캡슐화제와 언더필 재료를 빠르고 균일하게 경화시켜 오븐 사용 시간을 줄이고 에너지 소비를 낮출 수 있습니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고 SPC 데이터도 더욱 정확해지며, 작업 일정도 예측 가능해집니다.
실용적인 세부 사항들 이 램프는 표준 TEL 플랫폼에 장착될 수 있으며, 연결 부품도 일치합니다. 하지만 램프와 웨이퍼 사이의 거리는 매우 정확해야 하므로, 설치할 때 반드시 확인해야 합니다. 출력이 안정되기까지는 약간의 시간이 필요하므로, 검증 전에 충분한 예열 과정을 거쳐야 합니다. 또한, 방출체의 수명을 보호하고 ±0.1°C라는 일정한 온도 범위를 유지하기 위해 지정된 전력 공급 프로필을 준수해야 합니다.