Op de productielocatie is temperatuurvariatie tijdens de karakterisering van de wafers en het verhitten van de fotoresist geen abstract begrip. Het heeft tot gevolg dat er fouten in de dikte van de laagjes optreden, er restanten van de film overblijven en de opbrengst afneemt. We hebben onze verwarmingseenheid voor de karakterisering van halfgeleiderapparaten zo ontworpen dat deze variabiliteit wordt weggenomen. Hierdoor blijft de temperatuur binnen de gewenste grenzen, zodat er geen problemen ontstaan.
Wat technisch gezien belangrijk is: Onze korte-golfinfraroodverwarming zorgt voor een snelle en gecontroleerde verhitting, met een uniformiteit van ±0,1°C op het niveau van de wafers. De reactietijd is voldoende kort om de temperatuur binnen enkele seconden te stabiliseren. Hierdoor wordt de cyclusduur verkort, zonder dat de herhaalbaarheid wordt aangetast. De apparatuur kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100, zonder dat er particules worden gegenereerd. U hebt 24/7 betrouwbaarheid, zonder onverwachte stilstand. Bovendien wordt de temperatuur goed gereguleerd, zodat zowel het zachte als het harde verhittingsproces binnen de gewenste grenzen blijft.
Waarom dit werkt: In lithografische machines zorgt de verwarmingseenheid voor het drogen van de wafers, het voorverhitten van de fotoresist en het verhiten na toepassing. Hierdoor zijn er minder herwerkingswerkzaamheden nodig en wordt de kwaliteit van de producten behouden. De energieverbruik neemt af, omdat de thermische massa laag is en de werktijd kort is. Hierdoor wordt de procesruimte groter, omdat thermische schommelingen worden verminderd. Voor de karakterisering van apparaten zorgt deze stabiliteit ervoor dat de metingen herhaalbaar zijn. Hierdoor kunnen de gegevens per batch en per wafer vergeleken worden.
Enkele praktische details: Voor de installatie moet de aansluiting op de chuck goed worden gefixeerd en moet worden gecontroleerd of er voldoende infraroodstraling door het venster van de kamer komt. Wij leveren de benodigde tekeningen en procedures voor de acceptatie. Het systeem presteert het beste wanneer de reflectoren goed zijn gealigneerd en de lamp binnen zijn maximale vermogensgrenzen wordt gebruikt. Overbelasting verkort de levensduur van de lamp en kan leiden tot variaties in de temperatuur. Plan dus regelmatige vervanging van de lampen en routinematige kalibratie om de uniformiteit en herhaalbaarheid te behouden.