ファブの現場では、フォトレジストの焼成やウェーハの乾燥時に生じる熱変動は、単なるボトルネックにとどまらない。これにより、重要な寸法が変化し、結果として歩留まりが低下する。私たちは、プロセス温度を回を重ねても安定させるためにTELヒーターランプを開発した。
内部で何が重要か 高純度の石英製ケースの中に短波長のハロゲンエミッターが搭載されており、クローズドループ制御策と組み合わせることで、ウェーハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことができる。応答速度も速いため、ソフトベイクやハードベイク時に温度の急激な上昇を防ぐことができる。
クラス1～100のクリーンルームでは、粒子の発生は避けられない問題だ。この設計により、数千回の加熱サイクルを経ても粒子数を一定に保つことができる。出力の再現性は5,000時間以上維持され、温度の変動は5％未満に抑えられる。
なぜこの製品が適しているのか リソグラフィーでは、厳格な温度管理が求められる。このランプを使えば、ソフトベイクやハードベイクの際に再現性の高い加熱プロファイルを得ることができ、それによって廃棄物の削減やCD制御の精度向上が図られる。
ウェーハの洗浄や乾燥においては、表面の水分を取り除きつつも熱応力を引き起こさないため、より高速で処理が可能になり、消費される消耗品の量も少なくなる。パッケージングの段階では、封止剤やアンダーフィルを迅速かつ均一に硬化させることができ、オーブンの使用時間を短縮し、エネルギー消費を削減できる。その結果、再作業が減少し、SPCデータもより正確になり、スケジュールも予測可能になる。
実用的な詳細 このランプは、標準的なTELプラットフォームに簡単に装着でき、接続コネクタも同梱されている。しかし、ランプとウェーハの距離は数ミリメートル単位で正確に調整する必要があり、設置時に必ず確認する必要がある。
出力が安定するまでにはしばらく時間がかかるため、試験運転の前に適切なウォームアップを行う必要がある。また、エミッターの寿命を長持ちさせ、±0.1℃の均一性を維持するために、指定された電源条件を厳守する必要がある。